光譜分析儀以光電倍增管等光探測器測量譜線不同波長位置強(qiáng)度的裝置。其構(gòu)造由一個入射狹縫，一個色散系統(tǒng)，一個成像系統(tǒng)和一個或多個出射狹縫組成。以色散元件將輻射源的電磁輻射分離出所需要的波長或波長區(qū)域，并在選定的波長上（或掃描某一波段）進(jìn)行強(qiáng)度測定，分為單色儀和多色儀兩種。

　　光譜分析儀應(yīng)用很廣，在農(nóng)業(yè)、天文、汽車、生物、化學(xué)、鍍膜、色度計量、環(huán)境檢測、薄膜工業(yè)、食品、印刷、造紙、喇曼光譜、半導(dǎo)體工業(yè)、成分檢測、顏色混合及匹配、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用、熒光測量、寶石成分檢測、氧濃度傳感器、真空室鍍膜過程監(jiān)控、薄膜厚度測量、LED測量、發(fā)射光譜測量、紫外/可見吸收光譜測量、顏色測量等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

　　一臺典型的光譜分析儀主要由一個光學(xué)平臺和一個檢測系統(tǒng)組成。包括以下幾個主要部分：

　　1.入射狹縫：在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點。

　　2.準(zhǔn)直元件：使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐?zhǔn)直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

　　3.色散元件：通常采用光柵，使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。

　　4.聚焦元件：聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點對應(yīng)于一特定波長。

　　5.探測器陣列：光譜分析儀放置于焦平面，用于測量各波長像點的光強(qiáng)度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。